Микросистемная техника и электронная компонентная база
Контакты
124498, г. Москва, г. Зеленоград, пл. Шокина, д. 1
+7 (499) 720 69 08

ЦКП оснащен новейшим оборудованием мирового уровня, которое позволяет реализовать замкнутый технологический маршрут проектирования интегральных схем с последующим изготовлением фотошаблонов и организацией мелкосерийного производства конечной продукции на отечественных производственных мощностях.

Оборудование

Автомат разварки выводов 64000 G5 (FK)
Автомат разварки выводов 64000 G5 (FK)
Автомат разварки выводов 64000 G5 (FK)
Автомат разварки выводов 64000 G5 (FK)
Назначение:
Установки и оборудование для механической обработки
Сканирующее зондовое устройство для исследования морфологии, тепловых и магнитных полей изделий микросистемной техники на базе атомно-силового микроскопа Smart SPM фирмы AIST-NT
Сканирующее зондовое устройство для исследования морфологии, тепловых и магнитных полей изделий микросистемной техники на базе атомно-силового микроскопа Smart SPM фирмы AIST-NT
Сканирующее зондовое устройство для исследования морфологии, тепловых и магнитных полей изделий микросистемной техники на базе атомно-силового микроскопа Smart SPM фирмы AIST-NT
Сканирующее зондовое устройство для исследования морфологии, тепловых и магнитных полей изделий микросистемной техники на базе атомно-силового микроскопа Smart SPM фирмы AIST-NT
Назначение:
Области применения: 1. Измерение геометрических размеров: латеральных размеров образцов с точностью до 0,5 нм и высоты ступенек профиля с точностью 0,1 нм; 2. Исследование электростатических, магнитных и тепловых полей на поверхности образцов; 3. Измерение локального поверхностного сопротивления
Вакуумная печь
Вакуумная печь
Вакуумная печь
Вакуумная печь
Назначение:
Предназначена для высокотермической обработки материалов в условиях стационарной лаборатории
Времяпролетный вторично-ионный масс-спектрометр TOFSIMS-5-100 (IonTOF)
Времяпролетный вторично-ионный масс-спектрометр TOFSIMS-5-100 (IonTOF)
Времяпролетный вторично-ионный масс-спектрометр TOFSIMS-5-100 (IonTOF)
Времяпролетный вторично-ионный масс-спектрометр TOFSIMS-5-100 (IonTOF)
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области ионной масс-спектроскопии
Высоковакуумная низкотемпературная система для исследования нанорельефа, электростатических, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами ACM/CTM/MCM PlasmoScope-2M
Высоковакуумная низкотемпературная система для исследования нанорельефа, электростатических, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами ACM/CTM/MCM PlasmoScope-2M
Высоковакуумная низкотемпературная система для исследования нанорельефа, электростатических, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами ACM/CTM/MCM PlasmoScope-2M
Высоковакуумная низкотемпературная система для исследования нанорельефа, электростатических, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами ACM/CTM/MCM PlasmoScope-2M
Назначение:
Исследование нанорельефа, магнитных и тепловых свойств наноструктур методами АСМ/СТМ/МСТ
Двулучевая система высокого разрешения FEL Quanta 3D FEG DEMO
Двулучевая система высокого разрешения FEL Quanta 3D FEG DEMO
Двулучевая система высокого разрешения FEL Quanta 3D FEG DEMO
Двулучевая система высокого разрешения FEL Quanta 3D FEG DEMO
Назначение:
Исследование поверхности твердых тел с высоким разрешением и большой глубиной фокуса
Дифрактометр многофункциональный Rigaku SmartLab
Дифрактометр многофункциональный Rigaku SmartLab
Дифрактометр многофункциональный Rigaku SmartLab
Дифрактометр многофункциональный Rigaku SmartLab
Назначение:
Предназначен для фазового и структурного анализа кристаллических тонких пленок
Установка для зондового контроля и анализа микросхем PM5
Установка для зондового контроля и анализа микросхем PM5
Установка для зондового контроля и анализа микросхем PM5
Установка для зондового контроля и анализа микросхем PM5
Назначение:
Установка для тестирования и испытания
Зондовая установка для тестирования микросхем в составе пластин UF200A TOKYO
Зондовая установка для тестирования микросхем в составе пластин UF200A TOKYO
Зондовая установка для тестирования микросхем в составе пластин UF200A TOKYO
Зондовая установка для тестирования микросхем в составе пластин UF200A TOKYO
Назначение:
Предназначена для контроля электрических и функциональных параметров кристаллов в составе пластин совместно с установкой тестирования
Программно-аппаратный комплекс ДМТ-518 (Электроникс)
Программно-аппаратный комплекс ДМТ-518 (Электроникс)
Программно-аппаратный комплекс ДМТ-518 (Электроникс)
Программно-аппаратный комплекс ДМТ-518 (Электроникс)
Назначение:
Предназначена для измерения электропроводности и диэлектрической проницаемости нанокомпозитных материалов, нанослоев и нанопокрытий на постоянном токе и в переменных полях
Лазерный конфокальный микроскоп VL 2000 DХ (Lasertech)
Лазерный конфокальный микроскоп VL 2000 DХ (Lasertech)
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области лазерной микроскопии
Линия герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки с вакуумной печью и возможностью корпусирования в гелиевой среде
Линия герметизации корпусов методом роликовой шовной сварки с вакуумной печью и возможностью корпусирования в гелиевой среде
Назначение:
Герметизация корпусов методом роликовой шовной сварки с вакуумной печатью и возможностью корпусирования в гелиевой среде
Микроскоп МИКРО2001-01
Микроскоп МИКРО2001-01
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области сканирующей микроскопии
Оже-микрозонд PHI-670xi (Physical Electronics) в составе Специализированного программно-технического комплекса коллективного пользования для количественного элементного 3D анализа изделий нано- и микросистемной техники
Оже-микрозонд PHI-670xi (Physical Electronics) в составе Специализированного программно-технического комплекса коллективного пользования для количественного элементного 3D анализа изделий нано- и микросистемной техники
Назначение:
Анализэлементного состава поверхности и получение профиля распределения элементов по глубине
Зондовая установка контроля электрических параметров Cascade Summit 12K
Зондовая установка контроля электрических параметров Cascade Summit 12K
Назначение:
Предназначена для измерения электропроводности и диэлектрической проницаемости нанокомпозитных материалов, нанослоев и нанопокрытий на постоянном токе и в переменных полях
Программно-аппаратный комплекс для проведения процессов с фотошаблонами размером 7 дюймов
Программно-аппаратный комплекс для проведения процессов с фотошаблонами размером 7 дюймов
Назначение:
Оборудование для микроскопических исследований
Профилометр Alpha-Step D120
Профилометр Alpha-Step D120
Назначение:
Предназначен для измерения высоты ступеньки, шероховатости и волнистости поверхности в различных приложениях
Проходная камера CK-581 (Multitest Elektronische System)
Проходная камера CK-581 (Multitest Elektronische System)
Назначение:
Предназначена для измерения внешним измерителем электрических параметров микросхем в спутниках - носителях при положительных и отрицательных температурах, сортировки их по группам годности
Вакуумная электроннолучевая система для исследования морфологии, элементного состава и формирования рисунка изделий микросистемной техники на базе растрового электронного микроскопа JSM-6490LV
Вакуумная электроннолучевая система для исследования морфологии, элементного состава и формирования рисунка изделий микросистемной техники на базе растрового электронного микроскопа JSM-6490LV
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области растровой микроскопии высокого разрешения
Рентгеноскопическая цифровая система контроля микросхем с функцией томографии
Рентгеноскопическая цифровая система контроля микросхем с функцией томографии
Назначение:
Предназначена для контроля наличия дефектов с углом наклона направления взгляда до 70 градусов, которое выводится на весь экран с разрешением 2 мегапикселя
Комплект блоков и оснастки XeDraw 2 для управления пучком и прецизионной засветки фоторезиста на поверхности полупроводниковых подложек для растрового электронного микроскопа
Комплект блоков и оснастки XeDraw 2 для управления пучком и прецизионной засветки фоторезиста на поверхности полупроводниковых подложек для растрового электронного микроскопа
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области электронно-ионной литографии
Система по изучению магнитооптического эффекта Керра Neoark BH-PI7892-KI
Система по изучению магнитооптического эффекта Керра Neoark BH-PI7892-KI
Назначение:
Предназначена для измерения магнито-оптических параметров и доменной структуры
Система реактивно-ионного травления и обработки поверхности фотошаблона "Corial 300S" с дополнительными опциями
Система реактивно-ионного травления и обработки поверхности фотошаблона "Corial 300S" с дополнительными опциями
Назначение:
Осуществление замкнутого цикла изготовления фотошаблонов (в т.ч. изготовление критических слоев с использованием RET-технологии). Формирование топологических элементов с размерами нанодиапазоне в маскирующем слое при прямом переносе изображения методом электронно-лучевой литографии.
Сканирующий спектральный эллипсометр Uvisel 2 (Horiba)
Сканирующий спектральный эллипсометр Uvisel 2 (Horiba)
Назначение:
Исследование оптических характеристик и толщин тонких пленок
Спектральное устройство для исследования оптических характеристик многослойных тонкопленочных структур на базе эллипсометра AutoSE фирмы Horiba
Спектральное устройство для исследования оптических характеристик многослойных тонкопленочных структур на базе эллипсометра AutoSE фирмы Horiba
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области спектральной эллипсометрии
Сухожаровой термошкаф
Сухожаровой термошкаф
Назначение:
Выполнен по технологии APT.Line, которая обеспечивает равномерный нагрев всей камеры, высокую точность и стабильное поддержание заданной температуры. Имеет интерфейс RS 232/422 для подключения ПК с ПО, обеспечивающим документирование результатов в соответствии с нормами GMP/GLP, FDA. Возможно получение сертификатов соответствия, калибровки и квалификации IQ/OQ.
Комплект блоков и оснастки MK3 COOLSTAGE для проведения экспериментов при пониженных и повышенных температурах для растрового электронного микроскопа
Комплект блоков и оснастки MK3 COOLSTAGE для проведения экспериментов при пониженных и повышенных температурах для растрового электронного микроскопа
Назначение:
Исследования при пониженных и повышенных температурах образцов на растровом электронном микроскопе
Установка соединения пластин и подложек Suss Microtech Substrate bonder SB6
Установка соединения пластин и подложек Suss Microtech Substrate bonder SB6
Назначение:
Сборка кристаллов и соединения пластин
Технологический комплекс жидкостного травления и химической обработки кремния Mercury style (SCR)
Технологический комплекс жидкостного травления и химической обработки кремния Mercury style (SCR)
Назначение:
Оборудование и установки для травления
Установка напыления тонких пленок металлов SEGI-RFA3-4TR
Установка напыления тонких пленок металлов SEGI-RFA3-4TR
Назначение:
Реализация технологического процесса напыления тонких пленок металлов. Установка позволяет проводить следующие операции: магнетронное напыление пленок Al, AlSi, AlCu, Ti, TiN, Ni и проведение предварительной ионной зачистки в плазме аргона
Технологический комплекс фотолитографии и оптического контроля EVG 150
Технологический комплекс фотолитографии и оптического контроля EVG 150
Назначение:
Предназначен для формирования конечных материалов фотолитографии и оптического контроля
Установка контроля топологии ЭМ-6329Р
Установка контроля топологии ЭМ-6329Р
Назначение:
Предназначена для выполнения автоматического контроля топологии на фотошаблонах
Установка гидрообработки разделенных пластин
Установка гидрообработки разделенных пластин
Назначение:
Оборудование для гидромеханических процессов
Установка для акустических исследований объемных структур
Установка для акустических исследований объемных структур
Назначение:
Предназначен для проведения ультразвуковой дефектоскопиии при неразрушающем контроле сварных швов.
Установка для ионного травления и полировки Fischione Instruments Model 1060 SEM Mill
Установка для ионного травления и полировки Fischione Instruments Model 1060 SEM Mill
Назначение:
Подготовка прецизионных малоугловых шлифов для электронной микроскопии
Установка измерения поверхностного сопротивления
Установка измерения поверхностного сопротивления
Назначение:
Предназначен для измерения сопротивления в электрических сетях
Установка контроля акустических шумов LPD-4000.BGW
Установка контроля акустических шумов LPD-4000.BGW
Назначение:
Предназначен для измерения уровня шума в помещении
Установка контроля герметичности с камерой опрессовки в гелии HLT-560-VC
Установка контроля герметичности с камерой опрессовки в гелии HLT-560-VC
Назначение:
Предназначен для измерения потоков гелия при контроле герметичности микросхем масс-спектрометрическим методом
Установка монтажа кристаллов методом флип-чип с возможностью эвлектич.пайки РР5/4
Установка монтажа кристаллов методом флип-чип с возможностью эвлектич.пайки РР5/4
Назначение:
Установки и оборудование для механической обработки
Установка монтажа кристаллов с возможностью эвтектической пайки PP5/2 (Cefor Ingenierie)
Установка монтажа кристаллов с возможностью эвтектической пайки PP5/2 (Cefor Ingenierie)
Назначение:
Установки и оборудование для механической обработки
Установка плазменной очистки YES G500 Yield Engineering Systems
Установка плазменной очистки YES G500 Yield Engineering Systems
Назначение:
Небольшие настольные системы для плазменной очистки поверхности в полупроводниковых и биологических производствах. Используются также для снятия фоторезиста.
Установка тестирования и УЗ-сварки (полуавтомат)
Установка тестирования и УЗ-сварки (полуавтомат)
Назначение:
Установки и оборудование для ультразвуковой обработки
Установка тестирования микросистем UltraFlex (Teradyne)
Установка тестирования микросистем UltraFlex (Teradyne)
Назначение:
Установка предназначена для контроля электрических и функциональных параметров микросхем. Технические показатели: Количество источников питания: 20; Количество цифровых магистралей: 256; Количество аналоговых генераторов: 2; Производительность (зависит от сложности программы тестирования): - до 300 микросхем в час с применением автоматического сортировщика; - до 1000 кристаллов микросхем с применением автоматической зондовой установки.
Установка тестирования однокристальных микросистем (SoC)
Установка тестирования однокристальных микросистем (SoC)
Назначение:
Установка предназначена для контроля электрических и функциональных параметров микросхем
Установка формирования шариковых выводов с возможностью термо- и ультразвуковой сварки выводов  многоуровневых корпусов
Установка формирования шариковых выводов с возможностью термо- и ультразвуковой сварки выводов многоуровневых корпусов
Назначение:
Установки и оборудование для ультразвуковой обработки
Комплект блоков и оснастки IE350 X-Max20 (Premium) для проведения энергодисперсионного микроанализа для электронного микроскопа JEOL JSM-6490LV
Комплект блоков и оснастки IE350 X-Max20 (Premium) для проведения энергодисперсионного микроанализа для электронного микроскопа JEOL JSM-6490LV
Назначение:
Предназначен для проведения энергодисперсионного микроанализа для растрового электронного микроскопа
Энергодисперсионный спектрометр Quantax XFlash 6 (Bruker) с модульной системой дифракции обратнорассеянных электронов QUANTAX CrystAlign 200
Энергодисперсионный спектрометр Quantax XFlash 6 (Bruker) с модульной системой дифракции обратнорассеянных электронов QUANTAX CrystAlign 200
Назначение:
Предназначен для проведения энергодисперсионного рентгеновского микроанализа
Кластерная установка плазмохимического травления диэлектрических слоев
Кластерная установка плазмохимического травления диэлектрических слоев
Назначение:
Предназначена для травления диэлектрических (нитрид кремния, оксид кремния, ФСС и т.д.) и проводящих слоев (кремний, поликремний), кроме того установка обеспечивает процесс сверхглубокого травления кремния, так называемый BOSCH-процесс, который является наиболее важным для технологии формирования МЭМС
4-х кан. установка хим. осаждения из газ. фазы при пониж. давлении и плазм. активации SVFUR-PEH4
4-х кан. установка хим. осаждения из газ. фазы при пониж. давлении и плазм. активации SVFUR-PEH4
4-х канальная печь SVFUR-AH4-1 . компания SVCS
4-х канальная печь SVFUR-AH4-1 . компания SVCS
4-х канальная печь SVFUR-AH4-2 . компания SVCS
4-х канальная печь SVFUR-AH4-2 . компания SVCS
4-х канальная установка хим.осаждения из газовой фазы при пониж.давлении SVFUR
4-х канальная установка хим.осаждения из газовой фазы при пониж.давлении SVFUR
Камера климатическая программируемая Espeс MC-811P
Камера климатическая программируемая Espeс MC-811P
Контрольно-измерительный стенд для воспроизведения рельефа поверхности объекта и обеспечения высококачественного 3-х мерного компьютерного изображения (Оптический профилометр)
Контрольно-измерительный стенд для воспроизведения рельефа поверхности объекта и обеспечения высококачественного 3-х мерного компьютерного изображения (Оптический профилометр)
Оптический микроскоп Vistec lNM100
Оптический микроскоп Vistec lNM100
Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Оптический микроскоп Vistec lNM100/DFC290 с цветной цифр.камерой
Оптический микроскоп Vistec lNM200 UV высокого разрешения
Оптический микроскоп Vistec lNM200 UV высокого разрешения
Оптический микроскоп VL2000D высокого разрешения
Оптический микроскоп VL2000D высокого разрешения
Программно-технический комплекс коллективного пользования для проектирования и испытаний систем-на-кристалле и сенсоров физических, биологических и химических (установка измерения поверхностного сопротивления quad pro)
Программно-технический комплекс коллективного пользования для проектирования и испытаний систем-на-кристалле и сенсоров физических, биологических и химических (установка измерения поверхностного сопротивления quad pro)
Система бесконтактного измерения температуры и теплового анализа SC5700 M (FLIR System)
Система бесконтактного измерения температуры и теплового анализа SC5700 M (FLIR System)
Система лазерного разделения пластин со структурами, формируемыми по технологии 3D-сборки
Система лазерного разделения пластин со структурами, формируемыми по технологии 3D-сборки
Система обрезки и формовки выводов 5000L-F-3A-F-1A/4 Fancort Industries, Inc.
Система обрезки и формовки выводов 5000L-F-3A-F-1A/4 Fancort Industries, Inc.
Система электрохимического формирования слоев металла в структурах 3D сборки
Система электрохимического формирования слоев металла в структурах 3D сборки
Стенд измерения и контроля параметров аналоговых микросхем и устройств ДМТ-219
Стенд измерения и контроля параметров аналоговых микросхем и устройств ДМТ-219
Установка резки пластин DAD3350
Установка резки пластин DAD3350
Все оборудование