Исследования наноструктурных, углеродных и сверхтвердых материалов
Контакты
142190, г. Москва, г. Троицк, ул. Центральная, д. 7а
+7 (499) 400 62 25

Центр коллективного пользования научным оборудованием ФГБНУ ТИСНУМ "Исследования наноструктурных, углеродных и сверхтвердых материалов" создан на базе федерального государственного бюджетного научного учреждения "Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов". Направления исследований ЦКП сконцентрированы в области сверхтвердых и углеродных материалов, в том числе наноструктурных. 

Оборудование

Анализатор тепло- и температуропроводности
Анализатор тепло- и температуропроводности
Анализатор тепло- и температуропроводности
Анализатор тепло- и температуропроводности
Назначение:
Термомеханический анализ материалов в широкой области температур и при варьируемой нагрузке.
Вакуумный Фурье-спектрометр c ИК микроскопом и криостатом от 80К
Вакуумный Фурье-спектрометр c ИК микроскопом и криостатом от 80К
Вакуумный Фурье-спектрометр c ИК микроскопом и криостатом от 80К
Вакуумный Фурье-спектрометр c ИК микроскопом и криостатом от 80К
Назначение:
ИК-Фурье спектрометр предназначен для проведения анализов в ИК области спектра для оценки подлинности органических и неорганических соединений, анализ состава смесей.
Весы лабораторные
Весы лабораторные
Весы лабораторные
Весы лабораторные
Назначение:
Предназначены для применения в лабораториях научно-исследовательских организаций, образовательных и медицинских учреждений, предприятий различных отраслей промышленности и сельского хозяйства.
Весы лабораторные электронные с приставкой для измерения плотности
Весы лабораторные электронные с приставкой для измерения плотности
Весы лабораторные электронные с приставкой для измерения плотности
Весы лабораторные электронные с приставкой для измерения плотности
Назначение:
Надежные прецизионные весы начального уровня. Встроенные функции и режимы: счет штук, процентное взвешивание, суммирование, динамическое взвешивание, статистическая обработка данных, взвешивание с допусками, умножение на коэффициент, формулирование нетто / брутто / таравзвешивающая ячейка MonoBloc (кроме ML 802E, 1502E, 6001E, 15KL(IP)E, 24KLIPE, 30KLE) большой дисплей с яркой индикациейфункция самодиагностики основных механизмоввстроенный интерфейс RS232 калибровка встроенной гирей по нажатию клавиширабота в автономном режиме до 8 часовметаллический алюминиевый корпус.
Высокочастотный широкополосный импульсный акустический микроскоп
Высокочастотный широкополосный импульсный акустический микроскоп
Высокочастотный широкополосный импульсный акустический микроскоп
Высокочастотный широкополосный импульсный акустический микроскоп
Назначение:
Специализированный прибор, разработанный для биомедицинских исследований и включающий комплексные методы оптической микроскопии для наблюдения за живыми системами, неорганическими, органическими и наноматериалами.
ИК-Фурье спектрометр
ИК-Фурье спектрометр
ИК-Фурье спектрометр
ИК-Фурье спектрометр
Назначение:
ИК-Фурье спектрометр предназначен для проведения анализов в ИК области спектра для оценки подлинности органических и неорганических соединений, анализ состава смесей.
Комплекс всеволновой КР-спектроскопии монокристаллов
Комплекс всеволновой КР-спектроскопии монокристаллов
Комплекс всеволновой КР-спектроскопии монокристаллов
Комплекс всеволновой КР-спектроскопии монокристаллов
Назначение:
Оборудование для исследования и анализа методом оптической спектроскопии.
Комплекс для оптических спектральных исследований  и КРС в диапазоне температур от 5 до 196 К на базе спектрометра TRIAX series
Комплекс для оптических спектральных исследований и КРС в диапазоне температур от 5 до 196 К на базе спектрометра TRIAX series
Комплекс для оптических спектральных исследований  и КРС в диапазоне температур от 5 до 196 К на базе спектрометра TRIAX series
Комплекс для оптических спектральных исследований и КРС в диапазоне температур от 5 до 196 К на базе спектрометра TRIAX series
Назначение:
Оборудование для исследования и анализа методом оптической спектроскопии.
Комплекс для проведения литографических операций и модификации поверхности алмаза с использованием лазерного излучения
Комплекс для проведения литографических операций и модификации поверхности алмаза с использованием лазерного излучения
Комплекс для проведения литографических операций и модификации поверхности алмаза с использованием лазерного излучения
Комплекс для проведения литографических операций и модификации поверхности алмаза с использованием лазерного излучения
Назначение:
Системы для формирования конечных материалов.
Комплекс испытательного оборудования для исследования электромеханических свойств материалов в различных температурных условиях
Комплекс испытательного оборудования для исследования электромеханических свойств материалов в различных температурных условиях
Комплекс испытательного оборудования для исследования электромеханических свойств материалов в различных температурных условиях
Комплекс испытательного оборудования для исследования электромеханических свойств материалов в различных температурных условиях
Назначение:
Определение механических свойств материалов.
Лазерно-ультразвуовой дефектоскоп
Лазерно-ультразвуовой дефектоскоп
Назначение:
Предназначен для ультразвукового исследования нарушений структуры таких материалов, как металлы, композиты, керамики, пластмассы.
Машина универсальная напольная для электромеханических испытаний
Машина универсальная напольная для электромеханических испытаний
Назначение:
Применяется для испытаний высокопрочных металлов и сплавов, улучшенных композитов, аэрокосмических и автомобильных конструкций, болтов, крепежных деталей и листовой стали.
Микроскоп
Микроскоп
Назначение:
Предназначен для проведения общенаучных экспериментов в области микроскопии.
Низкотемпературный дифференциальный сканирующий калориметр
Низкотемпературный дифференциальный сканирующий калориметр
Назначение:
Измерение теплоемкости.
Оборудование пробоподготовки. Автоматическое устройство с микропроцессорным управлением для электрополировки и травления
Оборудование пробоподготовки. Автоматическое устройство с микропроцессорным управлением для электрополировки и травления
Назначение:
Механическая и электро-механическая полировка поверхности для металлографического анализа
Перчаточный бокс с дополнительными опциями
Перчаточный бокс с дополнительными опциями
Назначение:
Предназначен для защиты оператора, продукта и окружающей среды при работе с патогенными агентами и микроорганизмами.
Порошковый дифрактометр с детектором Пельтье
Порошковый дифрактометр с детектором Пельтье
Назначение:
Оборудование для рентгеновской дифракции.
Прибор для определения электрического сопротивления и коэффициента Зеебека LSR-3 (LINSEIS)
Прибор для определения электрического сопротивления и коэффициента Зеебека LSR-3 (LINSEIS)
Назначение:
Предназначен для измерения сопротивления в электрических сетях.
Просвечивающий электронный микроскоп
Просвечивающий электронный микроскоп
Назначение:
Оборудование для микроскопических исследований.
Профилограф-нанопрофилометр
Профилограф-нанопрофилометр
Назначение:
Обеспечивает измерения полного профиля в 800 микрометров (возможно опциональное увеличение до 1.2 мм), суб-ангстремное разрешение сканирования, повторяемость в измерении высоты в пределах 6 ангстрем, предметный стол с возможностью регулировки в трех плоскостях, а так же множество других полезных особенностей.
Рентгеновский комплекс исследования топографии
Рентгеновский комплекс исследования топографии
Назначение:
Система используется для неразрушающего контроля структурного совершенства кристаллов с возможностью наблюдения линейных и планарных дефектов кристаллической решетки монокристаллов, таких как дислокации и дефекты упаковки.
Ростовой комплекс монокристаллических алмазных пленок
Ростовой комплекс монокристаллических алмазных пленок
Назначение:
Осаждение поликристаллических и эпитаксиальных монокристаллических алмазных пленок. Толщины отделенных поликристаллических пленок от 15 до 500 мкм. Толщины эпитаксиальных монокристаллических пленок от нескольких микрометров до нескольких миллиметров. Уровень примесей в сверхчистых монокристаллических пленках менее 1 ppb. Эпитаксиальные монокристаллические пленки допированные бором и азотом.
Сканирующая зондовая нанолаборатория
Сканирующая зондовая нанолаборатория
Назначение:
Комплексные исследования различных объектов с высоким пространственным разрешением. Сканирующая туннельная микроскопя (СТМ); Туннельная спектроскопия; Контактная атомно-силовая микроскопия (АСМ); Микроскопия латеральных сил (МЛС); Резонансная АСМ; Метод отображения фазы; Метод модуляции силы; Изображение силы адгезии; Отображение сопротивления растекания; Сканирующая емкостная микроскопия (СЕМ); Метод зонда Кельвина; Магнитно-силовая микроскопия; Электро-силовая микроскопия (ЭСМ); Поперечно-силовая микроскопия; Измерение твердости методом склерометрии; Измерение модуля упругости методом кривых подвода.
Сканирующий нанотвердомер
Сканирующий нанотвердомер
Назначение:
Комплексные исследования рельефа и структуры поверхностей и измерения механических свойств (в том числе твердости и модуля упругости) объемных материалов и тонких пленок на субмикронном и нанометровом масштабе. Получение изображений рельефа поверхности путем растрового сканирования с шагом 1,5 нм в поле сканирования до 100 мкм.
Сканирующий электронный микроскоп JSM-7600F (Jeol)
Сканирующий электронный микроскоп JSM-7600F (Jeol)
Назначение:
Предназначен для исследования микроструктуры материалов
Спектрофотометр
Спектрофотометр
Назначение:
Решение широкого круга спектрофотометрических задач. Спектральный диапазон: 175 – 900 нм; Спектральное разрешение: 0,01 нм; Фотометрическая точность: ± 0,0003 А; Абсолютная погрешность измерения длины волны: ± 0,1 нм.
Стенд для измерения прочности сверхтвердых монокристаллических материалов и трубопроводов высокого давления
Стенд для измерения прочности сверхтвердых монокристаллических материалов и трубопроводов высокого давления
Назначение:
Стенд на базе системы гидроабразивной резки Mach500. Скорость продвижения 17,78 м/мин; Повторяемость +/- 0,03 мм. Номинальное давление насоса ≈ 4 100 – 6 400 бар. Алмазное сопло.
Стенд магнетронного напыления металлов для металлизации и формирования контактов к изделиям
Стенд магнетронного напыления металлов для металлизации и формирования контактов к изделиям
Назначение:
Изготовление металлических контактов и нанесение диэлектрических, пьезоэлектрических пленок. Размер реакционной камеры Ø 14”, высота 15.6”, Диаметр подложки до 100 мм, возможность нагрева подложки до 850 °C, конструкция магнетронов позволяет напыление магнитных материалов с толщиной мишеней до 3,5 мм
Установка измерения вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик
Установка измерения вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик
Назначение:
Измерения вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик (Диапазон токов 1 pA — 100 mA; диапазон напряжений –100 В — +100 В); Температурные зависимости электрических характеристик (Диапазон от 10 до 800 К); Измерения ЭДС Холла в магнитном поле до 2 Тесла.
3D-сканер System Sense Next Gen 3D Systems
3D-сканер System Sense Next Gen 3D Systems
Автоматический электрогидравлический пресс для горячей запрессовки образцов. С комплектующими и расходными материалами Mecapress 3 Presi
Автоматический электрогидравлический пресс для горячей запрессовки образцов. С комплектующими и расходными материалами Mecapress 3 Presi
Газоаналитическая система на базе квадрупольного масс-спектрометра с программным обеспечением для подключения газоанализатора к системе термического механического QMS 403 D Aeolos NETZSCH
Газоаналитическая система на базе квадрупольного масс-спектрометра с программным обеспечением для подключения газоанализатора к системе термического механического QMS 403 D Aeolos NETZSCH
Гомогенизатор ультразвуковой Sonics VCX 750 Sonics & Materials
Гомогенизатор ультразвуковой Sonics VCX 750 Sonics & Materials
Лазерная многоволновая система для возбуждения и регистрации спектров фотолюминесценции и комбинационного рассеяния света в ультрафиолетовом (213 и 266 нм) и фиолетовом (405 нм) спектральных диапазонах
Лазерная многоволновая система для возбуждения и регистрации спектров фотолюминесценции и комбинационного рассеяния света в ультрафиолетовом (213 и 266 нм) и фиолетовом (405 нм) спектральных диапазонах
Лазерная система для высокоточной разметки изделий из аллотропных форм углерода RAYMARK-50 RAYMARK
Лазерная система для высокоточной разметки изделий из аллотропных форм углерода RAYMARK-50 RAYMARK
Лазерная система для многоволновой рамановской микроскопии A-9836-4875 RENISHAW 405L-21A INTEGRATED OPTICS
Лазерная система для многоволновой рамановской микроскопии A-9836-4875 RENISHAW 405L-21A INTEGRATED OPTICS
Лазерная система, для нагрева в наковальнях образцов аллотропных форм углерода с визуальным и радиометрическим контролем процесса нагрева и регистрацией спектров КРС исследуемых образцов нагрева и регистрацией спектров КРС исследуемых образцов VGEN-ISP-PO
Лазерная система, для нагрева в наковальнях образцов аллотропных форм углерода с визуальным и радиометрическим контролем процесса нагрева и регистрацией спектров КРС исследуемых образцов нагрева и регистрацией спектров КРС исследуемых образцов VGEN-ISP-PO
Микроскоп стереоскопический SZX2-ZB16 Olympus
Микроскоп стереоскопический SZX2-ZB16 Olympus
Рамановский спектрометр-микроскоп 0914-20 Renishaw
Рамановский спектрометр-микроскоп 0914-20 Renishaw
Ростовая установка на базе ДО-044 для отраб.техпроцесса синтеза синтетических алмазов
Ростовая установка на базе ДО-044 для отраб.техпроцесса синтеза синтетических алмазов
Система термического механического анализа вертикальной конструкции TMA 402 F1 Hyperion NETZSCH
Система термического механического анализа вертикальной конструкции TMA 402 F1 Hyperion NETZSCH
Сканирующий зондовый микроскоп
Сканирующий зондовый микроскоп
УНУ Рентгеновская установка
УНУ Рентгеновская установка
Установка прототипирования 3D-принтер Form2 FormLabs
Установка прототипирования 3D-принтер Form2 FormLabs
Установка синтеза на базе пресса ДО-138Б/044
Установка синтеза на базе пресса ДО-138Б/044
Комплекс для исследования спектральных зависимостей магнитооптических эффектов в полупроводниковых материалах при низких температурах
Комплекс для исследования спектральных зависимостей магнитооптических эффектов в полупроводниковых материалах при низких температурах
Все оборудование