Авиационно-космические материалы и технологии
Контакты
121552, г. Москва, ул. Оршанская, д. 3
+7 (499) 141 95 88
Основной целью ЦКП «АКМиТ» является создание необходимых условий, обеспечивающих приток молодежи в ведущие научные центры страны, специализирующиеся в области создания авиационно-космических материалов и инновационных технологий их получения и обработки, предприятия обороно-промышленного комплекса и других высокотехнологичных отраслей промышленности, а также условий для подготовки кадров высшей квалификации в этом направлении.
Услуги
Проведение рентгенодифракционных исследований поли- и монокристаллов, в том числе определение текстур, макронапряжений, качественного и количественного состава многокомпонентных систем материалов
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Измерение микротвёрдости металлов и сплавов по шкалам Виккерса и Кнупа, в т. ч. поверхностных слоев металла при механической обработке, отдельных составляющих у структурно неоднородных сплавов, гальванических и других покрытий
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Измерение твёрдости металлов и сплавов по шкале Виккерса
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Измерение макро твёрдости металлов и сплавов по шкале Роквелла и суперроквелла
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Механическая фрезерная обработка образцов и изделий сложной формы из металлов и сплавов.
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Проведение испытаний металлических образцов на мало- и многоцикловую усталость, определение предела выносливости при комнатной температуре
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Проведение различных термических процессов в вакууме при температуре до 1000°
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Электроэррозионная резка заготовок образцов разных размеров и формы из металлов и сплавов
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Проведение наводороживающего отжига в среде высокочистого водорода
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем
Наблюдение и анализ поверхностей материалов и микроструктур с максимальным разрешением 120 нм по x/y и 10 нм по z-направлению.
- Приоритетное направление:
- Индустрия наносистем