ЦКП Метрологии
Контакты
143025, МО, Одинцовский р-н, Сколково дер., ул. Новая, д. 100а
+7 (495) 933 43 17

ЦКП «Микроанализ» Технопарка Сколково обладает современными системами для оптической, растровой, ионной, просвечивающей микроскопии, а также рентгеновской томографии высокого разрешения, трехмерной микроскопии, фотоэлектронной спектроскопии, анализа частиц методом прямого определения размеров, элементного микроанализа. Современная высокотехнологичная инфраструктура ЦКП позволяет оказывать широкий спектр услуг и сервисов, высокое качество которых подтверждено ведущими инновационными компаниями и организациями. Оператором ЦКП «Микроанализ» является компания «Системы для микроскопии и анализа» (СМА).

Оборудование

Анализатор концентрации, формы и размера частиц Ambivalue EyeTech
Анализатор концентрации, формы и размера частиц Ambivalue EyeTech
Анализатор концентрации, формы и размера частиц Ambivalue EyeTech
Анализатор концентрации, формы и размера частиц Ambivalue EyeTech
Назначение:
• Прямое определение размеров частиц • Экспресс анализ распределения частиц по размерам, мультипараметрический анализ морфологии и определение концентрации частиц в одном процессе • Возможность работы с разными типами образцов (порошки, гели, эмульсии, суспензии, аэрозоли). Возможность измерения размеров прозрачных объектов в прозрачной среде • Возможность встраивания прибора в технологические процессы для непрерывного мониторинга проточных сред
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Helios NanoLab 660
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Helios NanoLab 660
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Helios NanoLab 660
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Helios NanoLab 660
Назначение:
• Исследования любых типов образцов (диэлектрики, влажные, газящие, загрязнённые, жирные) • Динамические эксперименты in situ • Анализ элементного состава, картирование поверхности (от бора до урана) • Изготовление образцов для просвечивающей микроскопии • Исследование гетероструктур • Исследование приповерхностной структуры методом поперечных срезов (до 100мкм) • 3D-реконструкция микроструктуры объектов • Создание микро- и нанопрототипов различных объектов • Приготовление образцов для ПЭМ
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Versa 3D LowVac
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Versa 3D LowVac
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Versa 3D LowVac
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп FEI Versa 3D LowVac
Назначение:
• Исследования любых типов образцов (диэлектрики, влажные, газящие, загрязнённые, жирные) • Динамические эксперименты in situ • Анализ элементного состава, картирование поверхности (от бора до урана) • Изготовление образцов для просвечивающей микроскопии • Исследование гетероструктур • Исследование приповерхностной структуры методом поперечных срезов (до 100мкм) • 3D-реконструкция микроструктуры объектов • Создание микро- и нанопрототипов различных объектов • Приготовление образцов для ПЭМ
Конфокальный микроскоп FEI CorrSight
Конфокальный микроскоп FEI CorrSight
Конфокальный микроскоп FEI CorrSight
Конфокальный микроскоп FEI CorrSight
Назначение:
• Многофункциональная конфокальная флуоресцентная микроскопия для исследований в области Life Sciences • Корреляционная световая и электронная микроскопия (CLEM) • Неподвижный предметный столик, обеспечивающий микроскопию в сложных средах (живые культуры с системой микрофлюидного жизнеобеспечения и контроля среды; in situ пробоподготовка для электронной микроскопии – фиксирование, контрастирование, заливка; криомикроскопия) • MAPS – программная среда для мультимасштабной мультимодальной корреляционной визуализации
Настольный растровый электронный микроскоп FEI Phenom
Настольный растровый электронный микроскоп FEI Phenom
Настольный растровый электронный микроскоп FEI Phenom
Настольный растровый электронный микроскоп FEI Phenom
Назначение:
Позволяет исследовать морфологию поверхности образца с высоким разрешением
Просвечивающий электронный микроскоп FEI Tecnai G2 F20S-Twin TMP
Просвечивающий электронный микроскоп FEI Tecnai G2 F20S-Twin TMP
Просвечивающий электронный микроскоп FEI Tecnai G2 F20S-Twin TMP
Просвечивающий электронный микроскоп FEI Tecnai G2 F20S-Twin TMP
Назначение:
• Структурные исследования на атомарном уровне - Источник электронов с полевой эмиссией обеспечивает высокую яркость и когерентность электронного пучка, что улучшает разрешение прибора (до 0,13 нм) и повышает чувствительность аналитических методов. • Анализ элементного, химического и фазового состава нанометровых объектов - Спектроскопия характеристических потерь энергии электронов, EFTEM (GATAN GIF2000) - Электронно-зондовый микрорентгеноспектральный анализ - Высокоугловой аннулярный темнопольный детектор электронов (HAADF) • 3D и 4D микроскопия (объемная визуализация, динамические эксперименты) - Специальный держатель образцов для электронной томографии - Специальный держатель образцов для динамических экспериментов с нагревом in situ (до 1300 °С)
Рентгеновский микроскоп / микротомограф Xradia VersaXRM-500
Рентгеновский микроскоп / микротомограф Xradia VersaXRM-500
Рентгеновский микроскоп / микротомограф Xradia VersaXRM-500
Рентгеновский микроскоп / микротомограф Xradia VersaXRM-500
Назначение:
Объемная микроскопия широкого круга образцов, средство 3D визуализации и неразрушающего контроля внутренних дефектов и структур размером от 1 мкм. • Неразрушающий метод исследования объемной микроструктуры • 3D реконструкция образца • 3D моделирование образца с математическим расчётом по ряду признаков (вес, проницаемость, пористость, сравнительный объем и т.п.) • Анализ дефектов, включений • Реинжиниринг
Универсальный световой микроскоп Leica DM LB2 с системой цифровой съемки и ПО Image Scope
Универсальный световой микроскоп Leica DM LB2 с системой цифровой съемки и ПО Image Scope
Универсальный световой микроскоп Leica DM LB2 с системой цифровой съемки и ПО Image Scope
Универсальный световой микроскоп Leica DM LB2 с системой цифровой съемки и ПО Image Scope
Назначение:
Метод световой микроскопии использует оптическую систему (микроскоп) для изучения мелких объектов. Система состоит из источника света, освещающего объект исследования, объектива и окуляра, формирующих увеличенное изображение объекта, регистрируемое непосредственно глазом или при помощи CCD камеры или фотоматериалов. Увеличение прибора ограничено оптической силой объектива и окуляров. Разрешение ограничено половиной длины волны света источника.
Фотоэлектронный спектрометр PHI Versa Probe II
Фотоэлектронный спектрометр PHI Versa Probe II
Фотоэлектронный спектрометр PHI Versa Probe II
Фотоэлектронный спектрометр PHI Versa Probe II
Назначение:
• Анализ элементного состава и химического состояний поверхностей по всем элементам кроме водорода и гелия: • Анализ химического состава поверхности образцов, включая органические и неорганические материалы, проводники и диэлектрики • Профилирование химического состава по глубине тонких пленок и покрытий, включая полупроводниковые гетероструктуры, магнитные и оптические тонкое пленки, декоративные и износостойкие покрытия • Анализ состава чувствительных материалов, для которых неприменимы методы электронно-зондового микроанализа
Рентгенофлуоресцентный спектрометр EDAX Orbis PC Micro-XRF Analyzer
Рентгенофлуоресцентный спектрометр EDAX Orbis PC Micro-XRF Analyzer
Рентгенофлуоресцентный спектрометр EDAX Orbis PC Micro-XRF Analyzer
Рентгенофлуоресцентный спектрометр EDAX Orbis PC Micro-XRF Analyzer
Назначение:
• Неразрушающий экспресс-метод определения элементного состава от Na до U • Анализ любых типов образцов, включая жидкости • Эффективный экспресс-анализ больших областей интереса • Определение низкого содержания примесей в образце