Функциональные микро/наносистемы
Контакты
105082, г. Москва, Рубцовская наб., д. 2/18
+7 (499) 263 65 31

Научно-образовательный центр «Функциональные Микро/Наносистемы» - ультра современный технологический центр, который поддерживает и обеспечивает реализацию передовых практических исследований в области оптоэлектронной элементной базы на новых физических принципах, нанофотоники и оптики, квантовых вычислений, биоаналитических платформ типа «лаборатория-на-чипе», интегрированных систем на базе МЭМС, а также тонкопленочных и толстопленочных технологий. НОЦ ФМНС является структурным подразделением МГТУ им. Н.Э. Баумана. Исследования в центре выполняются с использованием оборудования различных подразделений Университета, объединенных в единый технологический кластер, а также на оборудовании, приобретаемом в рамках динамично развивающегося промышленного консорциума.

Оборудование

Анализатор размеров частиц лазерный дифракционный Microtrac Bluewave
Анализатор размеров частиц лазерный дифракционный Microtrac Bluewave
Анализатор размеров частиц лазерный дифракционный Microtrac Bluewave
Анализатор размеров частиц лазерный дифракционный Microtrac Bluewave
Назначение:
Предназначен для гранулометрического анализа порошков от 10 нм до 2 мм
Атомно-силовой микроскоп Solver NexT (НТ-МДТ)
Атомно-силовой микроскоп Solver NexT (НТ-МДТ)
Атомно-силовой микроскоп Solver NexT (НТ-МДТ)
Атомно-силовой микроскоп Solver NexT (НТ-МДТ)
Назначение:
Позволяет исследовать топографию поверхности различных образцов с высоким разрешением менее 1 нм. Оснащен приставкой для наноиндентирования, позволяющей исследовать локальные механические, прочностные свойства образцов в различных точках с различными динамическими нагрузками, локально измерять твердость и модуль упругости, а так же, получать карты распределения модуля упругости и вязкости.
ВВ камера для нанесения наноструктур на оптические покрытия
ВВ камера для нанесения наноструктур на оптические покрытия
ВВ камера для нанесения наноструктур на оптические покрытия
ВВ камера для нанесения наноструктур на оптические покрытия
Назначение:
Нанесение покрытий методом импульсного лазерного осаждения
Гидравлический пресс для подготовки образцов TechPress 2 (Allied High Tech Products)
Гидравлический пресс для подготовки образцов TechPress 2 (Allied High Tech Products)
Гидравлический пресс для подготовки образцов TechPress 2 (Allied High Tech Products)
Гидравлический пресс для подготовки образцов TechPress 2 (Allied High Tech Products)
Назначение:
Предназначен для горячей запрессовки образцов в различные полимерные материалы для дальнейшего исследования методами оптической, растровой электронной микроскопии и другим видам исследований
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc)
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc)
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc)
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc)
Назначение:
Предназначен для определения толщин слоев, определения для каждого слоя зависимости коэффициентов преломления и затухания от длины волны света, а также вычисления некоторых специфических параметров, например, ширину запрещенной зоны для полупроводников и химический состав вещества
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией Platit pi-80
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией Platit pi-80
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией Platit pi-80
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией Platit pi-80
Назначение:
Вакуумная электродуговая установка ПИ-80 с вращающимися катодами, работающая по технологии LARC предназначена для нанесения покрытий на подложки из быстрорежущей стали, твердых сплавов, металлокерамики и пластмасс.
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии FEI Phenom
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии FEI Phenom
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии FEI Phenom
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии FEI Phenom
Назначение:
Сканирующий (растровый) электронный микроскоп Phenom позволяет получать изображение поверхности образца с очень большим разрешением. Он предназначен для проведения исследований микро- и наноструктур поверхности исследуемого образца.
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg)
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg)
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg)
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg)
Назначение:
Предназначен для синтеза прецизионных шаблонов или мастер – оригиналов.
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс (НТ-МТД)
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс (НТ-МТД)
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс (НТ-МТД)
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс (НТ-МТД)
Назначение:
определение морфологии поверхности, линейных размеров, фазового контраста различных материалов, включая тонкие пленки, покрытия, микро- и нанодисперсные материалы, нанокомпозиты, объемные аморфные и кристаллические материалы, методами сканирующей ионной и зондовой микроскопией;- определение неоднородности химического состава, толщин, пористости, дефектности слоев, степени кристалличности, поверхностной и межслойной шероховатости многослойных;- комплексные исследования методами фокусированного ионного пучка и атомно-силовой микроскопии химического состава поверхности материала, топографии, распределения электрических, магнитных и других свойств полимерных композиционных и полупроводниковых материалов, тонких пленок, поверхностных слоев и покрытий;- осаждение тонких пленок, поверхностных слоев и покрытий методом импульсного лазерного осаждения;- формирование объемных структур на поверхности материалов методом фокусированного ионного пучка, в т.ч. для создания дифракционных оптических эле
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ)
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ)
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ)
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ)
Назначение:
Позволяет исследовать оптические свойства образца за пределом дифракции с использованием методов АСМ, сканирующей ближнепольной оптической микроскопии (СБОМ) и КР-спектроскопии.
Прецизионный отрезной станок Allied techcut 5 (Allied High Tech Products)
Прецизионный отрезной станок Allied techcut 5 (Allied High Tech Products)
Прецизионный отрезной станок Allied techcut 5 (Allied High Tech Products)
Прецизионный отрезной станок Allied techcut 5 (Allied High Tech Products)
Назначение:
Автоматическая, полуавтоматическая и ручная резка различных материалов для подготовки образцов к различным видам исследований с высокой точностью.
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в JSPM-4610А (JEOL)
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в JSPM-4610А (JEOL)
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в JSPM-4610А (JEOL)
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в JSPM-4610А (JEOL)
Назначение:
Сверхвысоковакуумный атомно-силовой микроскоп JSPM-4610A позволяет исследовать физико-химические свойства, дефектность поверхности и топографию с атомным разрешением.
Стереомикроскоп Leica ES 2 (Leica Mirosystems)
Стереомикроскоп Leica ES 2 (Leica Mirosystems)
Стереомикроскоп Leica ES 2 (Leica Mirosystems)
Стереомикроскоп Leica ES 2 (Leica Mirosystems)
Назначение:
Предназначен для визуального контроля поверхности
Тигельный пресс-рекомбинатор горячего тиснения РЕ-1200 (MNHS)
Тигельный пресс-рекомбинатор горячего тиснения РЕ-1200 (MNHS)
Тигельный пресс-рекомбинатор горячего тиснения РЕ-1200 (MNHS)
Тигельный пресс-рекомбинатор горячего тиснения РЕ-1200 (MNHS)
Назначение:
Предназначен для воспроизведения одиночных голографических изображений и мультиплицирования их на пластиковой пластине размером до 800?1250 мм. Система включает в себя компьютерно управляемый гидравлический пресс с гидростанцией, подвижный X-Y – стол и автоматический обдув ионизированным сжатым азотом.
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2 (SussMicro Tec)
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2 (SussMicro Tec)
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2 (SussMicro Tec)
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2 (SussMicro Tec)
Назначение:
Предназначена для сращивания пластин различных материалов
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonus Sarl)
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonus Sarl)
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonus Sarl)
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonus Sarl)
Назначение:
Предназначена для детального обследования поверхности полупроводниковых пластин
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA_BA8 Gen3 (SussMicro Tec)
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA_BA8 Gen3 (SussMicro Tec)
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA_BA8 Gen3 (SussMicro Tec)
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA_BA8 Gen3 (SussMicro Tec)
Назначение:
Предназначена для литографии и совмещения пластин
Установка нанесения и сушки фоторезиста CEE 200CBX (Brewer Science)
Установка нанесения и сушки фоторезиста CEE 200CBX (Brewer Science)
Установка нанесения и сушки фоторезиста CEE 200CBX (Brewer Science)
Установка нанесения и сушки фоторезиста CEE 200CBX (Brewer Science)
Назначение:
Предназначена для нанесения и сушки фоторезиста
Установка сушки и дубления фоторезиста CEE 1300X (Brewer Science)
Установка сушки и дубления фоторезиста CEE 1300X (Brewer Science)
Установка сушки и дубления фоторезиста CEE 1300X (Brewer Science)
Установка сушки и дубления фоторезиста CEE 1300X (Brewer Science)
Назначение:
Предназначена для сушки и дубления фоторезиста
Шлифовально-полировальный станок П12М (Полилаб)
Шлифовально-полировальный станок П12М (Полилаб)
Шлифовально-полировальный станок П12М (Полилаб)
Шлифовально-полировальный станок П12М (Полилаб)
Назначение:
Подготовка шлифов для исследований методами оптической микроскопии, растровой электронной микроскопии и другими методами
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic)
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic)
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic)
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic)
Назначение:
Предназначен для травления, плазменной очистки и активации поверхности
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero)
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero)
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero)
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero)
Назначение:
Вакуумная упаковка предотвращает коррозию, влажность и упрощает хранение. Устройство совместимо со всеми стандартными пакетами для вакуумной упаковки, может использоваться в чистых помещениях. Имеет низкий уровень шума.
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы Фотон-компакт
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы Фотон-компакт
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы Фотон-компакт
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы Фотон-компакт
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR)
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR)
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR)
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR)
Назначение:
Применяется в научном и образовательном процессе в качестве лабораторной базы.
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI
Назначение:
Проведение измерений веса исследуемых образцов с точностью до 0,01 мг. Наибольший предел взвешивания 80 г.
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США).
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США).
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США).
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США).
Назначение:
Предназначена для получения тонких пленок и покрытий из различных материалов
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow)
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow)
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow)
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow)
Назначение:
Предназначен для проведения контроля поверхности пластин
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте Dolomite
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте Dolomite
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте Dolomite
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте Dolomite
Назначение:
Предназначен для проведения научных исследований и экспериментов в области микрофлюидики
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs)
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs)
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs)
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs)
Векторный анализатор цепей с опциями
Векторный анализатор цепей с опциями
Векторный анализатор цепей с опциями
Векторный анализатор цепей с опциями
Комплекс для высокочастотных измерений сверхпроводящих СВЧ-структур на базе криостата растворения BF-LD400
Комплекс для высокочастотных измерений сверхпроводящих СВЧ-структур на базе криостата растворения BF-LD400
Комплекс для высокочастотных измерений сверхпроводящих СВЧ-структур на базе криостата растворения BF-LD400
Комплекс для высокочастотных измерений сверхпроводящих СВЧ-структур на базе криостата растворения BF-LD400
Комплект оборудования для эллипсометрических и электрофизических измерений в составе: спектроскопический эллипсометр, полуавтоматическая установка ультразвуковой микросварки, установка для полуавтоматического контроля
Комплект оборудования для эллипсометрических и электрофизических измерений в составе: спектроскопический эллипсометр, полуавтоматическая установка ультразвуковой микросварки, установка для полуавтоматического контроля
Комплект оборудования для эллипсометрических и электрофизических измерений в составе: спектроскопический эллипсометр, полуавтоматическая установка ультразвуковой микросварки, установка для полуавтоматического контроля
Комплект оборудования для эллипсометрических и электрофизических измерений в составе: спектроскопический эллипсометр, полуавтоматическая установка ультразвуковой микросварки, установка для полуавтоматического контроля