Функциональные микро/наносистемы
Контакты
105082, г. Москва, Рубцовская наб., д. 2/18
+7 (499) 263 65 31

Научно-образовательный центр «Функциональные Микро/Наносистемы» - ультра современный технологический центр, который поддерживает и обеспечивает реализацию передовых практических исследований в области оптоэлектронной элементной базы на новых физических принципах, нанофотоники и оптики, квантовых вычислений, биоаналитических платформ типа «лаборатория-на-чипе», интегрированных систем на базе МЭМС, а также тонкопленочных и толстопленочных технологий. НОЦ ФМНС является структурным подразделением МГТУ им. Н.Э. Баумана. Исследования в центре выполняются с использованием оборудования различных подразделений Университета, объединенных в единый технологический кластер, а также на оборудовании, приобретаемом в рамках динамично развивающегося промышленного консорциума.

Услуги

Определение физико-механических характеристик композиционного материала
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Теоретическое исследование процессов деформирования и разрушения конструкций из композиционного материала при силовом нагружении
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Исследование микро- и наноструктуры различных упрочняющих покрытий для быстрорежущего инструмента
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Исследование кинетики образования и параметров наноразмерных наноструктурированных пленок, конденсирующихся на элементах термостабилизированной оптики космических аппаратов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Междисциплинарная научно-учебная лаборатория электронно-оптической микроскопии (FEI Phenom, Нидерланды). Проведение измерений
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Инфракрасный эллипсометр FTIR-Vase (J.A. Woollam Inc, США). Проведение исследования
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). КРС исследования.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Система сверхвысоковакуумная для проведения послойного анализа выращенных гетероструктур (Specs, Германия). Поверхностный химический и элементный анализ.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс ("блоки Нанофаб 100", НТ-МТД, Россия). Травление фокусированным ионным пучком.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка для нанесения твердых покрытий вместе с технологией. (Platit pi-80, Швейцария). Обработка образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в (JSPM-4610А, JEOL, Япония). Типовое исследование.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплексные исследования и разработка конструкторских и технологических решений в области термоэлектричества.
Приоритетное направление:
Транспортные и космические системы
Обучение современным методикам выполнения измерений микро- и наноструктуры и комплекса свойств материалов на научно-исследовательском оборудовании ЦКП
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). Исследование методом СЗМ.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Зондовая нанолаборатория Интегра Спектра Апрайт (НТ-МДТ, Россия). СБОМ исследования.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный многокамерный нанотехнологический комплекс ("блокиНанофаб 100", НТ-МТД, Россия). Исследование методом СЗМ.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый микроскоп с комплектом эл-в (JSPM-4610А, JEOL, Япония). Исследование при крио температурах.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Анализатор размеров частиц лазерной дифракционный Bluewave (Microtrac, США). Проведение измерений «Сухим» или «жидкостным» методом (дионизованная вода).
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Анализатор размеров частиц лазерной дифракционный Bluewave (Microtrac, США). Проведение измерений «жидкостным» методом (изопропиловый спирт).
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование тонких пленок (с материалами заказчика).
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки хрома.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки алюминия.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки титана.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки оксида кремния.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Формирование пленки оксида циркония.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Комплекс оборудования для оснащения учебных лабораторий в области инженерных и естественных наук по распределенным сенсорным системам (EvoVac, Angstrom Eng., Канада и 1300Х HMDS, Brewer Science, США). Дегидратация и обработка в парах ГМДС образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Лазерный генератор изображения uPG101 (Heidelberg Instruments, Германия). Обработка образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка контактной литографии и совмещения для бондинга MA/BA8 Gen3 (SussMicro Tec, Германия). Экспонирование образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный для участка микрофлюидики в комплекте (Dolomite, Великобритания). Исследование работы микрофлюидных устройств.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный на базе стереомикроскопа (Elveflow, Франция и Nikon, Япония). Исследование работы микрофлюидных устройств.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд экспериментальный плазменной очистки и активации поверхности в среде инертных газов модель Pico (Diener Electronic, Германия). Обработка образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка бондинга SussMicroTec SB8 Gen2(SussMicro Tec, Германия). Обработка образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка инспекции поверхности в ИК-свете WBI200 (Idonu Sarl, Швейцария). Обработка образца.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (с материалами заказчика).
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение и сушка ПММА 950k.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k, А4.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k, А7.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение ПММА 950k AR-P 672.03.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение электронно-лучевого резиста CSAR 62 (SX AR-P 6200.04).
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Copolymer Resists EL6.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Copolymer Resists EL9.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение защитного проводящего покрытия Electra 92 AR-PC 5090,02
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение адгезива TI Prime.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение LOR-5B.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение AZ1505.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение Ultra-i123 0,8.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение SPR 955-1,4 CM.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, подслой OmniCoat для нанесения SU8.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение SU-8.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка нанесения и сушки фоторезиста СЕЕ 200СВХ (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца, нанесение HSQ.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 1 минута)
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 15 минут)
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 30 минут)
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 45 минут)
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Установка сушки и дубления фоторезиста СЕЕ1300Х (Brewer Science, Великобритания). Обработка образца (термообработка 1 час)
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд измерительного прецизионного измерения изменений массы MSA225S-100-DI (Sartorius, Германия). Взвешивание образцов.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд для динамического измерения адгезионных и антифрикционных параметров термоэлектрических материалов и коммутационных покрытий на базе станка Allied techcut 5 (Allied High Tech Products, США). Прецизионная резка.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд для прессования из порошка объемного термоэлектрического полупроводникового материала с заданными свойствами на базе станка Allied TechPress 2 ((Allied High Tech Products, США). Горячая запрессовка образцов.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Тепловизор A655sc c германиевым объективом (FLIR, Германия). Использование тепловизора.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Стенд для формирования многослойных коммутационных структур на полупроводниковых термоэлектрических ветвях методом лазерного 3D принтинга на базе лазерной системы "Фотон-компакт" (Лазерный гравер, Россия). Работа на оборудовании.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Устройство для вакуумной упаковки пакетов AZ-450E (AirZero, Южная Корея). Упаковка образцов.
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем