Микросистемная техника и электронная компонентная база
Контакты
124498, г. Москва, г. Зеленоград, пл. Шокина, д. 1
+7 (499) 720 69 08

ЦКП оснащен новейшим оборудованием мирового уровня, которое позволяет реализовать замкнутый технологический маршрут проектирования интегральных схем с последующим изготовлением фотошаблонов и организацией мелкосерийного производства конечной продукции на отечественных производственных мощностях.

Услуги

Анализ структуры и измерение геометрических параметров элементов СБИС
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Препарирование СБИС и фотографирование их топологических слоев для разных типов СБИС
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций жидкостного травления и химической обработки кремния
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций фотолитографии и оптического контроля
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций диффузии и окисления кремния
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций пиролитического и плазмостимулированного осаждения материалов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций плазменного, реактивно-ионного травления кремния и обработки материалов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций напыления тонких пленок металлов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Отработка и выполнение технологических операций групповой сборки кристаллов и соединения пластин
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Электротермотренировка микросхем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Информационно-телекоммуникационные системы
Масс-спектрометрический контроль содержания паров воды с корпусах микросхем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Изготовление и аттестация фотошаблона на соответствие техническим требованиям
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытания на воздействие синусоидальной, широкополосной случайной вибрации и многократных ударов
Приоритетное направление:
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Испытания на воздействие механических ударов одиночного действия. Ударные импульсы сложной формы (полусинусоидальной, пилообразной и прямоугольной)
Приоритетное направление:
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Испытание на воздействие повышенной рабочей и предельной температуры среды. Испытание на воздействие пониженной рабочей и предельной температуры среды.
Приоритетное направление:
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Разделение пластин на кристаллы
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Обработка корпусов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Посадка кристалла в корпус
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Формирование внутренних соединений
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Прихватка крышки к корпусу с последующей герметизацией
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Рентгеновский контроль изделий
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль наличия посторонних частиц в подкорпусном объеме изделия
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Параметрические измерения изделий
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Входной контроль аналоговых ИМС
Приоритетное направление:
Информационно-телекоммуникационные системы
Транспортные и космические системы
Калибровка измерительных специализированных технических средств, предназначенных для измерения электрических, геометрических и оптических параметров изделий МСТ и ЭКБ
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проведение высокоточных измерений толщин слоев, показателей преломления и состава в многослойных структурах МСТ и ЭКБ
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль параметров структуры рельефа поверхности на кремниевых пластинах в процессе изготовления изделий нано-микросистемной техники
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Измерение магнитных свойств поверхности изделий микросистемной техники с пространственным разрешением в нанометровом диапазоне
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проведение технологических операций жидкостного травления кремния
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проведение технологических операций фотолитографии и оптического контроля
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проведение технологических операций термического окисления кремния
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка внешнего вида микросхем ОСТ 11 073.013,405-1.3 - проводится с целью определения соответствия внешнего вида требованиям ТУ, образцам внешнего вида или "Описанию образцов внешнего вида".
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка статических параметров ОСТ11 073.013, 500-1, 203-1, 201-2,1 - проводится с целью проверки соответствия электрических параметров нормам, установленным в ТУ. Испытания проводят средствами измерений, приборами и приспособлениями, удовлетворяющими требованиям стандартов на методы измерения электрических параметров микросхем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на герметичность ОСТ11 073.013, 401-8, 401-9 - представляет собой приборную проверку герметичности микросхем путем обнаружения утечки введенного в них элегаза или содержащегося в них воздуха
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка качества маркировки ОСТ11 073.013, 407-1 - осуществляется с целью определения содержания и разборчивости маркировки
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие очищающих растворителей ОСТ11 073.013, 411-1 - проводят с целью проверки стойкости к воздействию очищающих растворителей наружных материалов (неметаллических покрытий) и маркировки микросхем выполненной лакокрасочными материалами, и (или) определение способности микросхем сохранять свои параметры в пределах значений, указанных в ТУ
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Внутренний визуальный контроль ОСТ11 073.013, 405-1.1 - метод предназначен для контроля кристаллов полупроводниковых микросхем, включая кристаллы третьей и высшей степени интеграции с металлизацией, защищенной и незащищенной диэлектрической пленкой и контроля качества сборки ИС
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль прочности сварного соединения ОСТ11 073.013, 109-4 - проводится с целью проверки прочности сварных соединений проволочных и ленточных выводов с контактными площадками кристалла, подложки (для гибридных схем) или траверсами корпуса и перемычек схем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание соединения кристалл- подложка на сдвиг ОСТ11 073.013, 115-1 - проводится с целью определения прочности соединений между кристаллом и держателем или подложкой и оценки качества крепления кристалла
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Кратковременное испытание на безотказность длительностью 1000 ч. - проводится с целью периодического контроля качества микросхем и проверки стабильности технологического процесса изготовления
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на влагостойкость в циклическом режиме ОСТ11 073.013, 207-4 - проводится с целью ускоренной оценки устойчивости микросхем и материалов, из которых они изготовлены, к разрушительному действию высокой влажности и температуры, характерных для тропического климата
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие одиночных ударов ОСТ11 073.013, 106-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию механических ударов одиночного действия и сохранять внешний вид и параметры после воздействия ударов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на вибропрочность ОСТ11 073.013, 103-1.1, 103-1.3 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию вибрации и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы после ее воздействия
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на виброустойчивость ОСТ11 073.013, 102-1 - проводится с целью проверки способности микросхем выполнять свои функции и сохранять внешний вид и параметры в пределах норм установленных в ТУ на микросхемы в условиях и после воздействия синусоидальных вибраций в заданных режимах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Информационно-телекоммуникационные системы
Проверка габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары ОСТ11 073.013, 404-2 - проводится с целью определения соответствия габаритных размеров индивидуальной, групповой, дополнительной и транспортной тары технической документации и ТУ
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Определение запасов устойчивости к воздействию механических , тепловых и электрических нагрузок (граничные испытания) ОСТ11 073.013, 422-1 - проводится при проведении приемки ОКР с целью определения: запасов устойчивости микросхем и корпусов к различным видам внешнего воздействия; предельных значений электрических режимов и минимальных значений предельно допустимых электрических режимов эксплуатации; резонансных частот микросхем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка массы микросхемы ОСТ11 073.013, 406-1 - проводится с целью проверки соответствия массы микросхем требованиям, установленным в ТУ на микросхемы
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на чувствительность к разряду статического электричества ОСТ11 073.013, 502-1, 502-1а - проводится с целью определения допустимых значений статического электричества для микросхем и определения их соответствия заданному в технической документации допустимому значению статического электричества
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка габаритных, установочных и присоединительных размеров ОСТ11 073.013, 404-1 - проводится с целью определения соответствия габаритных, установочных и присоединительных размеров микросхем требованиям ТУ на микросхемы
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие изменения температуры ОСТ11 073.013, 205-1, 205-3 - проводится с целью определения способности микросхем сохранять свой внешний вид и параметры после воздействия изменения температуры среды в пределах значений, установленных в ТУ на микросхемы
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие линейных ускорений ОСТ11 073.013, 107-1 - проводится с целью проверки способности микросхем противостоять разрушающему действию линейного ускорения и сохранять свои параметры после воздействия линейного ускорения
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (кратковременное) ОСТ11 073.013, 208-2 - проводится: а) с целью выявления технологических дефектов, если специфика производства и конструктивные особенности изделий таковы, что дефекты могут быть выявлены кратковременным испытанием; б) с целью выявления дефектов, которые могут возникнуть при других видах испытаний. Микросхемы испытывают без электрической нагрузки в камере влаги
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на пожарную безопасность ОСТ11 073.013, 410-1, 410-2 - проводится с целью оценки соответствия микросхем требованиям по обеспечению пожарной безопасности, установленным в ТЗ и ТУ на микросхемы
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие статической пыли ОСТ11 073.013 213-1 - проводится с целью проверки способности микросхем работать в среде с повышенной концентрацией пыли
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Проверка способности к пайке облуженных выводов без дополнительного облуживания после хранения в течение 12 месяцев ОСТ11 073.013, 402-1 - проводится с целью проверки выводов микросхем легко смачиваться припоем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль содержания паров воды внутри корпуса ОСТ11 073.013, 222-1, 222-2
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на способность к пайке ОСТ11 073.013, 402-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на теплостойкость при пайке ОСТ11 073.013, 403-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание выводов на воздействие растягивающей силы ОСТ11 073.013, 109-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание гибких проволочных и ленточных выводов на изгиб ОСТ11 073.013, 110-3
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Кратковременное испытание на безотказность длительностью 3000 ч. ОСТ11 073.013, 700-2,1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие пониженного атмосферного давления ОСТ11 073.013, 209-4
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на прочность при свободном падении ОСТ11 073.013, 408-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие повышенной влажности воздуха (длительное) с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 207-2
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на хранение при повышенной температуре ОСТ11 073.013,201-1.1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие атмосферного повышенного давления ОСТ11 073.013, 406-1, 210-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие атмосферного пониженного давления ОСТ11 073.013, 209-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие плесневых грибов ОСТ11 073.013, 214-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие инея и росы с покрытием лаком ОСТ11 073.013, 206-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие соляного тумана с покрытием лаком 3 слоя ОСТ11 073.013, 215-1
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание на воздействие акустического шума ОСТ11 073.013, 108-1, 108-2
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль топологи и поиск дефектов на фотошаблонах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Лазерная ретушь на фотошаблонах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Экспонирование фоторезиста на лазерном генераторе изображения
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Экспонирование резиста на электронно-лучевом генераторе изображения
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Измерение топологических элементов на фотошаблонах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Монтаж пелликлов на фотошаблонах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Межоперационная и финишная отмывки фотошаблонов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Информационно-телекоммуникационные системы
Физико-химическая обработка фотошаблонов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Измерение точностных параметров фотошаблонов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль топологии и поиск дефектов на фотошаблонах
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Герметизация корпуса
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Неразрушающий рентгеновский контроль полупроводниковых приборов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Контроль свободно перемещающихся частиц внутри корпуса по уровню шума
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Измерение параметров энергоносителей в системах теплоэнергетики
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание изделий МСТ и ЭКБ на воздействие внешних влияющих факторов
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Испытание датчиков контроля расхода энергоносителей в системах теплоэнергетики
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Реализация четырёхпроводного метода измерения абсолютного электрического сопротивления индивидуальных нанопроволок с применением фокусированного ионного пучка
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Организация и проведение стажировки
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Организация и осуществление повышения квалификации сотрудников
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Разработка технологии и организация производства имплантируемого насоса длительной механической поддержки кровообращения для пациентов с тяжелыми формами сердечной недостаточности
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Исследование возможности формирования верхнего слоя металлизации цифровых интегральных схем
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Исследования в области основных направлений развития научно-технологической базы высокоплотных технологий
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Разработка комплекса методик калибровки и поверки оборудования для диагностики внутренних поверхностей открытых и глухих каналов в агрегатах и узлах механизмов в машиностроительной и авиакосмической отраслях методом профиламетрии
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Исследование перспективных конструкций и технологических процессов изготовления генераторных приборов на алмазном теплоотводе с целью увеличения их выходной мощности
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Информационно-телекоммуникационные системы
Разработка эскизного проекта, технического проекта и стендов контроля для микросхемы изменения емкостей чувствительного элемента мостового диффиренциального типа в номинированное значение электрического напряжения для измерителей линейного ускорения
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Разработка опытного образца аппаратно-программного комплекса системы контроля процессов эксплуатации и энергопотребления объектов недвижимости
Приоритетное направление:
Энергоэффективность, энергосбережение, ядерная энергетика
Исследование и разработка узлов схемы обработки сигналов 3-х осевого пьезогироскопического механизма
Приоритетное направление:
Транспортные и космические системы
Разработка технологии изготовления микросхем со встроенной энергонезависимой памятью с минимальными топологическими размерами 90 нм и освоение производства серии СБИС для смарт карт на её основе
Приоритетное направление:
Информационно-телекоммуникационные системы
Разработка аппаратуры электронной (АЭ)
Приоритетное направление:
Информационно-телекоммуникационные системы
Проведение работ по препарированию СБИС, получению изображений их топологических слоёв в оптическом или электронном микроскопе
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем
Сборка образцов изделий СЦС ТЕАЦ3.057.031
Приоритетное направление:
Индустрия наносистем